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半导体专用设备
 

 
半导体专用设备
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砷化镓VGF法单晶炉


产品应用:主要用于2~6英寸锗单晶、砷化镓等化合物晶体的生长
产品特点: 
◆工业计算机控制系统(WINDOWS 系统界面,操作方便简洁) 
◆关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性 
◆控温精度高,温区控温稳定性好 
◆具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能 
◆晶体生长均匀性好、重复性高
主要技术指标 
◆工作温度:600~1280℃
◆适应晶体尺寸:2~6英寸 
◆装料量:10Kg/炉 
◆加热控制:7段控制 
◆温区长度:800mm±0.5℃(1000~1280℃) 
◆最大升温速率:15℃/min
◆升降行程:900mm 
◆最小升降速率(VB):0.1mm/h
    配套设备:合成炉、铸锭炉、脱氧封管炉等
 
全国免费咨询电话:400 0532 778    总经办电话:13805320424
 
EMAIL:qdyuhaodz@126.com     网址:www.qdyuhao888.cn
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