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半导体专用设备
 

 
半导体专用设备
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真空管式炉



 

主要用途:陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。 

主要功能和特点:

1.设备的控制系统国际领先,具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。

2.可供选择:真空管式炉、气氛管式炉、普通管式炉、旋转管式炉、多工位管式炉、分体管式炉、一体管式炉、立式管式炉、卧式管式炉、单温区管式炉、双温区管式炉、多温区管式炉。

技术参数:

产品型号

YH-GSZHK8500

炉  膛

进口高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛,保温性能好。

炉管尺寸

Φ40/60/80/100/150/200mm

加热元件

电热丝/硅钼棒

测温元件

B分度,双铂铑

控温方式

温度控制系统采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,30段升降温程序

密封方式

不锈钢法兰挤压密封

标配真空度

-0.1Mpa(如需更高真空可选购不同真空系统)

工作温度

≤1650℃

最高温度

1700℃

恒温精度

±1℃

恒温区长度

200/300/400/500/600/800/1000mm(可根据客户要求定制)

建议升温速度

10-30℃/min

额定功率

6KW

工作电源

AC220V/380V    50HZ/60HZ

温度类别

800  1000  1200  1400  1600  1700  1800

标准配件

密封法兰1套,“O”型圈4个,管堵4个,高温手套1副,坩埚钩1把

可选购附件

炉架,供混气系统,低、中、高真空系统,各种刚玉坩埚,刚玉管,计算机控制软件,无纸记录仪等。



 
 
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